三、結果和討論

各種流(liu)(liu)涂參數用于(yu)形(xing)成不同的(de)結(jie)構(gou)，例如超支化結(jie)構(gou)，垂直(zhi)于(yu)流(liu)(liu)動方向的(de)線（我(wo)們(men)將(jiang)其(qi)表示(shi)為(wei)"水平線"）， 或平行于(yu)流(liu)(liu)動方向的(de)線（我(wo)們(men)將(jiang)其(qi)表示(shi)為(wei) "垂直(zhi)條(tiao)紋"）。 為(wei)了探索(suo)這些結(jie)構(gou)的(de)形(xing)成， 我(wo)們(men)控(kong)制以下參數： UVO 曝光時(shi)間（至 控(kong)制基材表面能）、初(chu)始PS溶(rong)液濃度（co）、流(liu)(liu)涂停止時(shi)間（t）和設置距離 流(liu)(liu)涂 (d)。

基材表面能的重要性

UVO 暴露(lu)時(shi)間(jian)會導致鍵(jian)斷裂(lie)和(he)交聯 在(zai)(zai) ODTS 層中(zhong)引起表面能的(de)(de)變化 ODTS 改性底物。 17 UVO 暴露(lu)增加(jia) 時(shi)間(jian)會導致水(shui)的(de)(de)接觸角減小， 甲(jia)苯 [圖(tu)。 1(B)]。 在(zai)(zai)我們的(de)(de)研究中(zhong)，流(liu)涂 PS 溶液 在(zai)(zai) UVO 處理的(de)(de) ODTS 基材上使用 UVO 曝光時(shi)間(jian) 在(zai)(zai) 0 到 20 秒之間(jian)導致沒有 PS 沉(chen)積 [圖(tu)。 1(C)]。 隨(sui)著 UVO 暴露(lu)時(shi)間(jian)在(zai)(zai) 70 到 180 秒之間(jian)增加(jia)，PS 的(de)(de)水(shui)平線以確定的(de)(de)間(jian)距(ju)沉(chen)積 由滑動距(ju)離（接觸線的(de)(de)釘(ding)(ding)扎和(he)脫(tuo)釘(ding)(ding)之間(jian)的(de)(de)距(ju)離）。12 然(ran)而(er)，有趣的(de)(de)是，在(zai)(zai) 60 秒 UVO 暴露(lu)，觀察到超支化結(jie)構為 對(dui)齊良好的(de)(de)自相似三角形[圖(tu)。 1(C)]。

我們在這里工(gong)作(zuo)的重(zhong)要結果之一是(shi)在 60 秒 UVO 暴露(lu)下形成了這些超支(zhi)化結構 ODTS 基(ji)材通(tong)過(guo)流涂。 重(zhong)要的是(shi)，這些結構是(shi)通(tong)過(guo)流涂創(chuang)建的，它將(jiang)受控的"粘滑"運動引入接觸線，其中 PS 發生沉(chen)積。 無需流涂，一滴 PS 解決(jue)方(fang)案(an)，例如(ru)，垂(chui)直條(tiao)紋（支(zhi)持信息(xi)，圖 S2）沉(chen)積。

溶質馬蘭戈尼流

據我們所知，超(chao)支(zhi)化結(jie)構(gou)的(de)(de)(de)陣列有(you) 以(yi)前不是(shi)通過密(mi)閉蒸發(fa)獲得的(de)(de)(de) 集會; 然而(er)，通過將表(biao)(biao)面(mian)(mian)活性(xing)劑添加到含有(you) microshperes18 在(zai)純硅晶片上(shang)。 Stebe 等人。 推測(ce) 迪根的(de)(de)(de)周(zhou)(zhou)期(qi)性(xing)模式(shi)是(shi)由貝(bei)納德細胞產(chan)生(sheng)的(de)(de)(de)， 由熱(re) Marangoni 應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)(li)驅動。 19-21 作為液滴(di) 蒸發(fa)，液滴(di)表(biao)(biao)面(mian)(mian)冷卻并產(chan)生(sheng)作為深度(du)(du)(du)和半(ban)徑函數的(de)(de)(de)溫(wen)度(du)(du)(du)梯(ti)(ti)度(du)(du)(du)。 這(zhe)(zhe)些 溫(wen)度(du)(du)(du)梯(ti)(ti)度(du)(du)(du)產(chan)生(sheng)表(biao)(biao)面(mian)(mian)張(zhang)(zhang)(zhang)力(li)(li)(li)梯(ti)(ti)度(du)(du)(du) 誘導(dao)(dao)熱(re) Marangoni 應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)(li)。 22,23 除了熱(re) Marangoni 應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)(li)、表(biao)(biao)面(mian)(mian)張(zhang)(zhang)(zhang)力(li)(li)(li)梯(ti)(ti)度(du)(du)(du)也(ye)可以(yi)從溶(rong)質濃度(du)(du)(du)梯(ti)(ti)度(du)(du)(du)中(zhong)產(chan)生(sheng)，24 正如(ru)所觀察(cha)到的(de)(de)(de) 并預測(ce)聚合(he)物溶(rong)液。25,26 這(zhe)(zhe)種效(xiao)應(ying)(ying)(ying)是(shi) 稱為溶(rong)質馬蘭戈(ge)尼效(xiao)應(ying)(ying)(ying)。 一個值得注意的(de)(de)(de) 溶(rong)質 Marangoni 強調(diao)的(de)(de)(de)例(li)子是(shi)"Tears of Wine"，在(zai) 從表(biao)(biao)面(mian)(mian)張(zhang)(zhang)(zhang)力(li)(li)(li)較低的(de)(de)(de)區(qu)域(yu)抽(chou)取的(de)(de)(de)流體(ti) 由于張(zhang)(zhang)(zhang)力(li)(li)(li)梯(ti)(ti)度(du)(du)(du) 27,28（馬蘭戈(ge)尼力(li)(li)(li)）而(er)導(dao)(dao)致(zhi)表(biao)(biao)面(mian)(mian)張(zhang)(zhang)(zhang)力(li)(li)(li)較高的(de)(de)(de)區(qu)域(yu)。 在(zai)我們的(de)(de)(de)工作中(zhong)，摩擦引起的(de)(de)(de) 移動基板(ban)發(fa)生(sheng)在(zai)邊緣方(fang)(fang)向(xiang) 體(ti)溶(rong)液的(de)(de)(de)前面(mian)(mian)，29 方(fang)(fang)向(xiang)與(yu) 流涂(tu)中(zhong)的(de)(de)(de) Marangoni 力(li)(li)(li)。 這(zhe)(zhe)些反對 力(li)(li)(li)導(dao)(dao)致(zhi)垂直條紋(wen)的(de)(de)(de)周(zhou)(zhou)期(qi)性(xing)形成，平行于流動方(fang)(fang)向(xiang)。 因此，我們推測(ce) 這(zhe)(zhe)些條紋(wen)產(chan)生(sheng)超(chao)支(zhi)化結(jie)構(gou)。

圖(tu) 2 (A) 僅通(tong)過流涂的(de)(de)甲(jia)苯的(de)(de)彎(wan)液面前(qian)端。 箭頭表示流動(dong)后退方向。 (B) 彎(wan)月面 聚苯乙(yi)烯（PS）在(zai)甲(jia)苯中(zhong)(zhong)通(tong)過流涂的(de)(de)前(qian)面。 白(bai)色(se)的(de)(de) 虛線(xian)是眼睛的(de)(de)指南，半月板前(qian)面跟隨(sui) k 的(de)(de)周期(qi)波長。 (C) 表面張(zhang)力(li)(li)和(he)粘度(du)作為 初始 PS 濃度(du)的(de)(de)函數。 藍色(se)虛線(xian)表示甲(jia)苯的(de)(de)表面張(zhang)力(li)(li)。 示意圖(tu)說明 可能(neng)由(you)表面張(zhang)力(li)(li)梯度(du)引起的(de)(de)流動(dong)（由(you) 濃度(du)梯度(du)）用于在(zai)彎(wan)月面蒸發前(qian)沿的(de)(de)甲(jia)苯中(zhong)(zhong)的(de)(de) PS。

雖然熱(re) Marangoni 效(xiao)應是次(ci)要的(de)(de)(de)(de)(de) 對于我(wo)(wo)們(men)的(de)(de)(de)(de)(de)工藝，如甲苯(ben)的(de)(de)(de)(de)(de)穩定性所示(shi)(shi) 在圖 2(A) 中(zhong)沒(mei)有 PS 的(de)(de)(de)(de)(de)彎液面(mian)，我(wo)(wo)們(men)相信 溶(rong)質 Marangoni 效(xiao)應在超支化結構的(de)(de)(de)(de)(de)形(xing)成中(zhong)起(qi)著重要作(zuo)用（圖 2B）。 支持 這個假設，我(wo)(wo)們(men)注意(yi)到彎月面(mian)前沿，顯示(shi)(shi)在 圖 2(A,B)，僅顯示(shi)(shi)甲苯(ben)的(de)(de)(de)(de)(de)直線和 甲苯(ben)中(zhong) PS 的(de)(de)(de)(de)(de)正弦(xian)波(bo)表明溶(rong)質 馬蘭戈(ge)尼(ni)效(xiao)應比(bi)熱(re)馬蘭戈(ge)尼(ni)效(xiao)應更重要。 產生(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)溶(rong)質 Marangoni 效(xiao)應 通(tong)過濃度(du)梯(ti)度(du)引(yin)起(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)表面(mian)張力(li)梯(ti)度(du)，24 是濃度(du)局部波(bo)動的(de)(de)(de)(de)(de)結果 聚苯(ben)乙烯[圖。 2(C)]。

為了量化溶(rong)質 Marangoni 效應，25,26,30,31 我們估(gu)計 馬蘭戈(ge)尼數(shu) (Ma) 和馬蘭戈(ge)尼波長 (k).32

這里，（dy/dc）.△c 是由(you) 濃度(du)(du)梯度(du)(du)，h為(wei)(wei)柔(rou)性(xing)流(liu)涂刮刀下方間隙高(gao)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)大小，12 g為(wei)(wei)粘(zhan)(zhan)(zhan)度(du)(du)，D為(wei)(wei) 擴(kuo)散系數。 PS 在(zai)(zai)甲苯中的(de)(de)(de)(de)粘(zhan)(zhan)(zhan)度(du)(du) 溶(rong)(rong)液隨著 PS 濃度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)增(zeng)加而增(zeng)加。 33 表面(mian)(mian)張力的(de)(de)(de)(de)變(bian)化(hua)對應(ying)(ying)于各種變(bian)化(hua) 初(chu)(chu)始 PS 濃度(du)(du)水平 [圖。 2(C)] 被(bei)測(ce)(ce)(ce)量(liang) 使(shi)用 Micro Trough XS (Kibron, 公司）。 根據這些(xie)數據，我(wo)們確定 dc=dc e T? Dc.此(ci)(ci)外， 對應(ying)(ying)于不同初(chu)(chu)始 PS 濃度(du)(du)水平的(de)(de)(de)(de)粘(zhan)(zhan)(zhan)度(du)(du)變(bian)化(hua) [圖。 2(C)] 測(ce)(ce)(ce)量(liang)，使(shi)用 TA 儀器(qi) AR2000 流(liu)變(bian)儀，帶標準同心圓柱體，溫度(du)(du)為(wei)(wei) 20 8C，剪切速率為(wei)(wei) 200 s21 . 使(shi)用測(ce)(ce)(ce)量(liang) 值(zhi)，假(jia)設(she) D 5 2.1 3 10211 m2 /s（與 Ref. 34）（計(ji)(ji)算參見(jian)支持信息(xi)），并(bing)假(jia)設(she)溶(rong)(rong)液濃度(du)(du)在(zai)(zai)蒸發(fa)(fa)彎液面(mian)(mian)附近發(fa)(fa)生變(bian)化(hua)（計(ji)(ji)算參見(jian)支持信息(xi)），我(wo)們 找到(dao) 1052106 的(de)(de)(de)(de) Marangoni 數， 這表明在(zai)(zai)彎月(yue)面(mian)(mian)前沿(yan)(yan)的(de)(de)(de)(de)主要貢獻是 溶(rong)(rong)質馬(ma)蘭戈(ge)(ge)尼(ni)(ni)效應(ying)(ying)。 因此(ci)(ci)，當地的(de)(de)(de)(de)馬(ma)蘭戈(ge)(ge)尼(ni)(ni) 流(liu)動 [圖 2(C) 中的(de)(de)(de)(de)示意(yi)圖] 導(dao)致(zhi)正弦形狀 彎月(yue)面(mian)(mian)，其波長由(you)特(te)性(xing)給出 Marangoni 流(liu)的(de)(de)(de)(de)波長（參見(jian)支持信息(xi) 計(ji)(ji)算）。 因此(ci)(ci)，這種 Marangoni 效應(ying)(ying)設(she)置了(le)圖 3 中垂直條紋和點的(de)(de)(de)(de)周期性(xing)。 Marangoni 波長的(de)(de)(de)(de)幅度(du)(du)預(yu)計(ji)(ji)為(wei)(wei) 在(zai)(zai) 1.3 到(dao) 3.1 lm 之間，小于測(ce)(ce)(ce)量(liang)值(zhi) 30 流(liu)明，無論 UVO 暴(bao)露(lu)如何，它都幾乎保持不變(bian) 時間。 預(yu)測(ce)(ce)(ce)和測(ce)(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)(de) Marangoni 的(de)(de)(de)(de)這種差(cha)異 波長最有可(ke)能是由(you)于不可(ke)測(ce)(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)(de)增(zeng)加 蒸發(fa)(fa)彎液面(mian)(mian)前沿(yan)(yan)的(de)(de)(de)(de)粘(zhan)(zhan)(zhan)度(du)(du)。25,30

圖(tu) 3 (A) 具有停止(zhi)時(shi)(shi)間、t 5 100 ms 和設定距(ju)離的(de)超(chao)支化結構形(xing)成的(de)原位視頻圖(tu)像， d 5 5 流明。 快照之(zhi)間的(de)間隔時(shi)(shi)間 (Dt) 為 100 ms，步距(ju) (Ds) 從紅色三角形(xing)開(kai)始測量 標記。 白色箭頭表示流動(dong)后(hou)退(tui)方向。 (B) 超(chao)支化結構的(de)進化示意圖(tu)。

超支化結構形成

 揭示(shi)自發(fa)結構形(xing)成的(de)(de)細節 超(chao)支(zhi)化結構，我們(men)采用原位顯微鏡[圖(tu)(tu)。 3(A)]。 視(shi)頻圖(tu)(tu)像顯示(shi)超(chao)分(fen)(fen)支(zhi) 結構通常分(fen)(fen)三個階(jie)(jie)段形(xing)成[圖(tu)(tu)。 3(B)]。 我們(men)注意到(dao)，由(you)于(yu)我們(men)的(de)(de)彎液面(mian)的(de)(de)動(dong)態(tai) 過程中，我們(men)很難(nan)測量波長 動(dong)態(tai)彎液面(mian)。 在第一(yi)階(jie)(jie)段，手指平行于(yu) 由(you)于(yu)馬蘭(lan)戈尼不穩(wen)定性(xing)而出現流動(dong)方向 和摩擦。 重要的(de)(de)是(shi)，三角形(xing)半(ban)月板將(jiang)手指連接到(dao)半(ban)月板前部。 由(you)于(yu)手指是(shi) 與本(ben)體溶(rong)液相比，PS 的(de)(de)濃度更高， 手指的(de)(de)表面(mian)張(zhang)力相對(dui)較(jiao)高，拉(la)入 本(ben)體溶(rong)液，具有較(jiao)低的(de)(de)表面(mian)張(zhang)力。 這(zhe)一(yi)步是(shi) 如圖(tu)(tu)3(B)(a)所示(shi)。

在(zai)第二階(jie)段，一根(gen)手指分(fen)成兩根(gen)，從而(er)形(xing)成一個(ge)分(fen)支。 這種(zhong)劃分(fen)與足夠的(de)(de)(de) 使三(san)角形(xing)彎(wan)月面變(bian)薄 拉(la)伸至由(you)(you)流(liu)涂設(she)定距離確(que)定的(de)(de)(de)長度。 如果設(she)置的(de)(de)(de)距離足夠小，那么細化 不會發(fa)生，PS 溶液繼續饋送垂直(zhi) 條(tiao)紋(wen)。 對于變(bian)薄的(de)(de)(de)三(san)角形(xing)彎(wan)月面，我們假設(she) 兩個(ge)邊緣(yuan)的(de)(de)(de)蒸(zheng)發(fa)過程[圖2中的(de)(de)(de)兩個(ge)點。 3(B) (b)] 由(you)(you)于幾何形(xing)狀的(de)(de)(de)原(yuan)因，蒸(zheng)發(fa)速度更快 該位(wei)置的(de)(de)(de)彎(wan)液面，即靠近(jin)刀片的(de)(de)(de)位(wei)置 這會導致(zhi)更陡峭的(de)(de)(de)角度。 因此，邊緣(yuan)變(bian)為 更集中，增加了表面張力(li)，這在(zai) 轉(zhuan)彎(wan)繪制了較低級別(bie)的(de)(de)(de)解決方案 [彎(wan)曲的(de)(de)(de)箭頭 圖3（B）（b）]中的(de)(de)(de)流(liu)動(dong)。 拉(la)伸的(de)(de)(de)三(san)角形(xing)彎(wan)月面中的(de)(de)(de)向(xiang)外流(liu)動(dong)導致(zhi)了較低的(de)(de)(de)高(gao)度輪廓 中間由(you)(you)原(yuan)子力(li)顯微鏡表征(zheng)（支持(chi)信息，圖 S3）。

分支(zhi)一直(zhi)持續到第三階段[圖(tu)。 3(B)(c)] 當達到編程設(she)定的(de)距離時。 此時，該(gai)(gai) 基板停止(zhi)移動(dong)，三角(jiao)形彎月指再次形成(cheng)，重(zhong)復該(gai)(gai)過程以形成(cheng)延伸 超支(zhi)化結(jie)構[與圖(tu)3（B）（a）相同]。

圖 4 PS 模式作為設定距離 d 的函數，具有常數 co (co 5 0.5 mg/mL)、t (t 5 100 ms) 和 UVO 暴(bao)露時間 （60 秒(miao)）。 白(bai)色箭頭(tou)表(biao)示流動后退方向(xiang)。

設置距(ju)離的(de)重要性(xing)

了(le)(le)(le)解超(chao)分支的(de)(de)控制參數(shu)(shu) 幾何，我(wo)們檢(jian)查了(le)(le)(le)設置距離(li) d 的(de)(de)影響（圖(tu) 4）， 同時(shi)保持 co、停止時(shi)間和 UVO 曝光時(shi)間常數(shu)(shu)。 當 d 較小時(shi)，例(li)如 d 5 1 或 2 lm，垂(chui)直 形(xing)成平(ping)行于流動(dong)(dong)方向的(de)(de)條紋。 間距 這些垂(chui)直條紋的(de)(de)數(shu)(shu)量(liang)由 Marangoni 波長設置； 然而，隨著設定距離(li)的(de)(de)增加，結構發生了(le)(le)(le)變化 從條紋到(dao)超(chao)支化結構。 此外，當 d 大于滑(hua)動(dong)(dong)距離(li)，例(li)如，d 5 20 lm 或 更大的(de)(de)、垂(chui)直于后退流的(de)(de)水平(ping)線(xian)(xian) 方向被(bei)沉(chen)積(ji)。 這種轉變與 在彎(wan)液(ye)面(mian)接(jie)觸(chu)(chu)線(xian)(xian)上形(xing)成臨界應力 造成不穩定。 在小 d，而 Marangoni 流 將(jiang)材(cai)料(liao)推向接(jie)觸(chu)(chu)線(xian)(xian)，刀(dao)(dao)片運(yun)動(dong)(dong)將(jiang)聚合物(wu)材(cai)料(liao)拖離(li)接(jie)觸(chu)(chu)線(xian)(xian)； 因此，沉(chen)積(ji)了(le)(le)(le)垂(chui)直條紋。 當半月板被(bei)拉伸(shen)時(shi) 在 3 到(dao) 7 lm 之(zhi)間，形(xing)成超(chao)支化結構。 為了(le)(le)(le) d 足夠大，彎(wan)月面(mian)被(bei)強烈拉伸(shen)并且 動(dong)(dong)搖(yao)。 固定觸(chu)(chu)點處的(de)(de)濃縮材(cai)料(liao) 線(xian)(xian)被(bei)沉(chen)積(ji)并形(xing)成一(yi)條水平(ping)線(xian)(xian)，而另一(yi)個 部分拉伸(shen)薄膜隨著刀(dao)(dao)片移動(dong)(dong)。

圖 5 (A) PS 圖案(an)作(zuo)為 UVO 曝(pu)光時(shi)間的函數 具有恒定的初始 PS 濃度 (co 5 0.5 mg/mL)、停止時(shi)間 (t 5 1000 ms) 和設置距離 (d 5 1 mm)。 這 白色箭頭(tou)表(biao)示流動后(hou)退方(fang)向。 (二) 聚苯乙烯 模(mo)式作(zuo)為 co 和 t 的函數，同時(shi)保持不變 距離 (d 5 5 lm) 和 60 秒的 UVO 曝(pu)光時(shi)間。

溶質沉積的重要性

雖然(ran)表面能不影(ying)(ying)響 Marangoni 流動，它確(que)實在(zai)聚合物的(de)沉積過程(cheng)中起作(zuo)用(yong) 涂層，15,16,35 包括(kuo)超(chao)支(zhi)化結構(gou)的(de)流涂 [圖。 1(C)]。 如前所述(shu)，26,36,37 蒸(zheng)發是 接(jie)觸角越小，溶質向外流動越快(kuai) 增(zeng)(zeng)加(jia)，導(dao)致(zhi)更多(duo)的(de)沉積。 在(zai)我(wo)們的(de)方法中，通(tong)過觀察沉積在(zai)初始接(jie)觸線上的(de) PS 數量并(bing)控(kong)制(zhi)停止時(shi)間，證實了這種效果 [無花果。 5(A)]。 PS吸附量隨著UVO的(de)增(zeng)(zeng)加(jia)而增(zeng)(zeng)加(jia) 由于(yu)(yu)在(zai)彎液面較(jiao)(jiao)低的(de)接(jie)觸角下(xia)溶劑蒸(zheng)發增(zeng)(zeng)加(jia)，暴露時(shi)間增(zeng)(zeng)加(jia)。 未來(lai)的(de)研究 控(kong)制(zhi)蒸(zheng)發率對圖案形成的(de)影(ying)(ying)響 6,38 可以使(shi)用(yong)流涂進行，例如， 強制(zhi)空(kong)氣對流以改變蒸(zheng)發率。 6 此(ci)外， 已知(zhi)較(jiao)(jiao)大的(de)接(jie)觸角有利(li)于(yu)(yu)去濕，15,16 和(he) 因此(ci)，拉伸的(de)半月板不穩定(ding)， 解釋為什么超(chao)支(zhi)化結構(gou)傾向于(yu)(yu)出現在(zai) 接(jie)觸角較(jiao)(jiao)大的(de)基材。

初始溶液濃度的重要性 和停止時間

進一(yi)步探索影響超支(zhi)(zhi)化的(de)(de)(de)變(bian)量 結(jie)構形成，我們保持UVO曝光時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)并設置 距(ju)離，d，常數(shu)，分別為(wei) 60 s 和(he)(he) 5 lm，并且變(bian)化 流涂參(can)數(shu)，初(chu)始(shi)溶液濃度(du)，co， 和(he)(he)停止(zhi)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)，t。 圖(tu) 5(B) 顯示(shi)了(le)(le)(le)作為(wei) co 和(he)(he) t 函(han)數(shu)的(de)(de)(de)沉(chen)積(ji) PS 的(de)(de)(de)典型形態特(te)征(zheng)。 對于(yu) PS 溶質在(zai)(zai)接觸線上的(de)(de)(de)沉(chen)積(ji)，在(zai)(zai)某(mou)種程度(du)上， 停止(zhi)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)相當于(yu)集(ji)中注意力。 更(geng)(geng)長(chang)的(de)(de)(de)停車(che)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian) 時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)促進更(geng)(geng)多(duo)的(de)(de)(de)蒸發，39 從而在(zai)(zai)接觸線上創造一(yi)個更(geng)(geng)集(ji)中的(de)(de)(de)區域，與相同(tong) co 的(de)(de)(de)更(geng)(geng)短(duan)停止(zhi)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)相比。 這種相似性(xing)是由 增(zeng)加(jia)(jia)(jia) co 或(huo)通(tong)過(guo)(guo)(guo)增(zeng)加(jia)(jia)(jia)停止(zhi)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)，顯示(shi) 從超支(zhi)(zhi)化結(jie)構到垂直(zhi)結(jie)構的(de)(de)(de)相同(tong)過(guo)(guo)(guo)渡 條紋。 轉(zhuan)換是通(tong)過(guo)(guo)(guo)更(geng)(geng)低(di)的(de)(de)(de) co 和(he)(he)更(geng)(geng)長(chang)的(de)(de)(de)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)實現(xian)的(de)(de)(de) 停止(zhi)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)或(huo)通(tong)過(guo)(guo)(guo)更(geng)(geng)高的(de)(de)(de) co 縮(suo)短(duan)停止(zhi)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)。 在(zai)(zai) 低(di) co (co 5 0.1 mg/mL)，在(zai)(zai) 更(geng)(geng)短(duan)的(de)(de)(de)停止(zhi)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)（t 5 70 ms），或(huo)者在(zai)(zai)較(jiao)長(chang)的(de)(de)(de)停止(zhi)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)（t 5 100 150 ms）下產(chan)生具有(you)垂直(zhi)拖尾(wei)的(de)(de)(de)點(dian)。 對于(yu)這些(xie)較(jiao)低(di)的(de)(de)(de) co，預(yu)計(ji)停止(zhi)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)會(hui)更(geng)(geng)長(chang) 足夠(gou)的(de)(de)(de)粘(zhan)度(du)增(zeng)加(jia)(jia)(jia)需要時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian) 實現(xian)了(le)(le)(le) PS 沉(chen)積(ji)。 在(zai)(zai)更(geng)(geng)高的(de)(de)(de) co 或(huo)更(geng)(geng)長(chang)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)停止(zhi) 次，接觸點(dian)附近(jin)有(you)更(geng)(geng)多(duo)的(de)(de)(de)聚合物材料可用 線，防止(zhi)拉伸(shen)的(de)(de)(de)半月板不穩(wen)定(ding) 進入分支(zhi)(zhi)結(jie)構。 周期(qi)性(xing)（波(bo)長(chang)） 垂直(zhi)條紋之(zhi)間(jian)(jian)由 Marangoni 決定(ding) 不穩(wen)定(ding)性(xing)和(he)(he)周期(qi)性(xing)隨(sui)著 co 的(de)(de)(de)增(zeng)加(jia)(jia)(jia)而增(zeng)加(jia)(jia)(jia) [圖(tu) 5（B）中 t 5 120 和(he)(he) 150 ms 的(de)(de)(de)垂直(zhi)列(lie)]。 這種增(zeng)加(jia)(jia)(jia) 觀察到周期(qi)性(xing)，因為(wei)粘(zhan)度(du) g 增(zeng)加(jia)(jia)(jia) [無(wu)花(hua)果。 2(C) 證明了(le)(le)(le) g 隨(sui)著 co 增(zeng)加(jia)(jia)(jia)而增(zeng)加(jia)(jia)(jia)] 結(jie)果 Ma 的(de)(de)(de)減(jian)少(shao)和(he)(he) k 的(de)(de)(de)增(zeng)加(jia)(jia)(jia)（方(fang)程 1 和(he)(he) 2）。

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結構——摘要、簡介

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結構——實驗制作

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結構——結果和討論

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結構——結論、致謝！